GV5608采用*的技术平台，实现了光绘机多幅面、多精度的*结合；采用*精密激光扫描控制机构，使激光扫描均匀稳定；电子激光自动调控系统，打破了国内激光传统控制，精确控制了线宽线距；软件具有非线性误差修正功能，在*的平台技术基础上可精确控制重合精度；专业的工业设计，稳定、可靠、耐用、大方；专为高级多层PCB、LCD、FPC制版工艺设计。
 

光绘幅面：36”X 56”（914mmX1360mm）；30”X 56”（762mmX1360mm）
成像方式: 外滚筒式单向16路激光并行成像；（或64路半导体激光成像，此机需定制）

光绘精度：6000DPI/9000DPI/12000DPI或4000DPI/8000DPI/12000DPI多精度自动切换；

线宽线距：光绘zui小线宽线距1mil，实用zui小线宽线距2mi；

l重合精度：±0.5mil；

光绘时间：20分钟至一小时；

上片方式：暗室自动上片下片（可连接冲片机接口，自动下片）；

外形尺寸: 1800mm×900mm×1280mm ；

结构形式：外鼓式激光；

扫描工作环境： AC 220V ± 2% ;温度22℃±10% ;湿度52±10%;