CM2000*混悬剂进口胶体磨,*混悬剂胶体磨
【简单介绍】
【详细说明】
*混悬剂进口胶体磨,*混悬剂胶体磨,*混悬剂立式胶体磨,*混悬剂高速胶体磨,*混悬剂高剪切胶体磨,*混悬剂管线式胶体磨
IKN胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。
*主要克服现有的片剂药ping生产工艺复杂,投服不便,剂量不准,驱虫效果较差等弊端。该混悬液含有*粉,升温至80度,液体石蜡,黄原胶,水,稳定剂。主要制备工艺为:将黄原胶加水配成胶液;置乳化器后加入石蜡油,升温至80,稳定剂,*粉用胶体磨进行剪切制成。本药ping生产工艺简单,质量稳定,投服操作简便,剂量准确,驱虫*。
IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较(*混悬液胶体磨,驱虫药混悬胶体磨,*混悬胶体磨,高剪切胶体磨):
一、转速和剪切速率:
IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距:
IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,ER胶体模块,ERO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。
间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工
国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
三、机械密封:
IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转
国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
四、清洗:
IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计*,立式结构符合流体原理,清洗更简便
国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,
通常情况,需要拆卸机器进行清洗
*混悬剂进口胶体磨,*混悬剂胶体磨,*混悬剂立式胶体磨,*混悬剂高速胶体磨,*混悬剂高剪切胶体磨,*混悬剂管线式胶体磨
ER2000系列的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
高剪切胶体磨主要用途:
高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。
胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
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