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【供应】MK-BDT50D 半导体激光打标机
- 公司名称：
- 更新时间：
- 所 在 地：
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- 昆山镭射麦克激光技术有限公司
- 2018-05-14 09:00:00
- 390
【简单介绍】
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用上的半导体泵浦激光技术,主要原理是利用波长808nm半导体激光二极管泵浦Nd:YAG晶体，使YAG棒产生大量的反转粒子，在Q开关的作用下形成波长为1064nm的巨脉冲激光束输出，激光束通过扩束、聚焦，Z后通过控制振镜的偏转实现标刻。半导体激光器的运用是激光打标领域的一次突破性变革,具有能耗小、电光转换效率高、激光输出模式稳定性好、可靠性高、体积小、打标效果好、无耗材等显著优点。
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用灵活的外形设计，外形美观、操作方便。重要光学部件均为欧美*，光路系统采用全密封结构、适合24小时工作的连续激光加工需求。
应用行业
特别适用于满足高精度加工需求。应用于电子元器件、五金制品、工具配件、集成电路（IC）、电工电器、手机通讯、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑料按键、建材、PVC管材、医疗器械等行业。
适用材料
可雕刻金属及多种非金属材料。普通金属及合金，稀有金属及合金，金属氧化物，特殊表面处理（如磷化、铝阳极化
【详细说明】
设备简介
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用上的半导体泵浦激光技术,主要原理是利用波长808nm半导体激光二极管泵浦Nd:YAG晶体，使YAG棒产生大量的反转粒子，在Q开关的作用下形成波长为1064nm的巨脉冲激光束输出，激光束通过扩束、聚焦，zui后通过控制振镜的偏转实现标刻。半导体激光器的运用是激光打标领域的一次突破性变革,具有能耗小、电光转换效率高、激光输出模式稳定性好、可靠性高、体积小、打标效果好、无耗材等显著优点。
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用灵活的外形设计，外形美观、操作方便。重要光学部件均为欧美*，光路系统采用全密封结构、适合24小时工作的连续激光加工需求。
应用行业
特别适用于满足高精度加工需求。应用于电子元器件、五金制品、工具配件、集成电路（IC）、电工电器、手机通讯、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑料按键、建材、PVC管材、医疗器械等行业。
适用材料
可雕刻金属及多种非金属材料。普通金属及合金，稀有金属及合金，金属氧化物，特殊表面处理（如磷化、铝阳极化、电镀表面），ABS料（如电器外壳等），油墨喷涂件（如透光按键、印刷制品），环氧树脂（电子组件的封装、绝缘层）。
系统特点
高稳定
半导体泵浦激光标记系统采用半导体技术取代传统的电真空技术。激励源采用大功率半导体矩阵，大大延长了产品的寿命和系统的稳定性。半导体激光打标系统的系统集成度高，不需要高压电源，高压器件，*地保证系统可靠性。全新的光路密封方式，保证了泵浦头的安全工作，免维护周期长。
高精度
半导体泵浦激光打标系统输出光束质量更趋近理想模式，更适合于超精细加工，zui小字符尺寸可达0.2mm。
速度快
半导体泵浦激光打标系统采用超精细的光学器件，其振镜速度远高于传统激光系统。在雕刻相同效果下可明显提高打标速度，典型的应用如打反白效果、除铝表面阳极化处理层。还可在不锈钢板上标记出颜色鲜艳重复性高的图案。
能耗低
半导体激光打标系统应用高效半导体矩阵，使激光转换效率大为提高。
体积小
高度集成化的控制系统，有利于顾客更好地利用工厂空间。
技术参数
激光功率50W
激光波长10640nm
脉冲频率500Hz-50KHz
操作系统Windows XP
标准打标范围110mm×110mm
选配器件旋转装置/抽风/夹具
供电电源220VAC/10A/50-60HZ
平均功耗≤1KW（CK-DP50）；≤1.5KW（CK-DP75）
打标深度0.01-0.2mm（视材料可调）
打标线宽0.01-0.2mm（视材料可调）
工作环境温度15℃-30℃；湿度30-80%
凈 重180kg
主机尺寸110cm×87cm×112cm
冷却系统恒温冷却机组
冷却介质纯凈水或蒸馏水
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用上的半导体泵浦激光技术,主要原理是利用波长808nm半导体激光二极管泵浦Nd:YAG晶体，使YAG棒产生大量的反转粒子，在Q开关的作用下形成波长为1064nm的巨脉冲激光束输出，激光束通过扩束、聚焦，zui后通过控制振镜的偏转实现标刻。半导体激光器的运用是激光打标领域的一次突破性变革,具有能耗小、电光转换效率高、激光输出模式稳定性好、可靠性高、体积小、打标效果好、无耗材等显著优点。
MK-BDT50D半导体泵浦系列激光打标机采用灵活的外形设计，外形美观、操作方便。重要光学部件均为欧美*，光路系统采用全密封结构、适合24小时工作的连续激光加工需求。
应用行业
特别适用于满足高精度加工需求。应用于电子元器件、五金制品、工具配件、集成电路（IC）、电工电器、手机通讯、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑料按键、建材、PVC管材、医疗器械等行业。
适用材料
可雕刻金属及多种非金属材料。普通金属及合金，稀有金属及合金，金属氧化物，特殊表面处理（如磷化、铝阳极化、电镀表面），ABS料（如电器外壳等），油墨喷涂件（如透光按键、印刷制品），环氧树脂（电子组件的封装、绝缘层）。
系统特点
高稳定
半导体泵浦激光标记系统采用半导体技术取代传统的电真空技术。激励源采用大功率半导体矩阵，大大延长了产品的寿命和系统的稳定性。半导体激光打标系统的系统集成度高，不需要高压电源，高压器件，*地保证系统可靠性。全新的光路密封方式，保证了泵浦头的安全工作，免维护周期长。
高精度
半导体泵浦激光打标系统输出光束质量更趋近理想模式，更适合于超精细加工，zui小字符尺寸可达0.2mm。
速度快
半导体泵浦激光打标系统采用超精细的光学器件，其振镜速度远高于传统激光系统。在雕刻相同效果下可明显提高打标速度，典型的应用如打反白效果、除铝表面阳极化处理层。还可在不锈钢板上标记出颜色鲜艳重复性高的图案。
能耗低
半导体激光打标系统应用高效半导体矩阵，使激光转换效率大为提高。
体积小
高度集成化的控制系统，有利于顾客更好地利用工厂空间。
技术参数
激光功率50W
激光波长10640nm
脉冲频率500Hz-50KHz
操作系统Windows XP
标准打标范围110mm×110mm
选配器件旋转装置/抽风/夹具
供电电源220VAC/10A/50-60HZ
平均功耗≤1KW（CK-DP50）；≤1.5KW（CK-DP75）
打标深度0.01-0.2mm（视材料可调）
打标线宽0.01-0.2mm（视材料可调）
工作环境温度15℃-30℃；湿度30-80%
凈 重180kg
主机尺寸110cm×87cm×112cm
冷却系统恒温冷却机组
冷却介质纯凈水或蒸馏水
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