一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I 越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。
价格面议
外形尺寸 | 424*265*260MM |
输入电压 | 220V/50Hz |
溅射电压 | 600V |
工作原理 | 磁控溅射 |
功率 | 4507 |
靶材尺寸 | 057*0.12MM (AU) |
可选靶材 | 金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属靶材 |
真空泵 | 直连式两级旋片式真空泵1心/S |
真空室 | 0128*130MM高强度玻璃 |
极限真空 | 1PA(电阻式真空规) |
抽气节拍 | ≤90S |
样品杯 | 00样品杯1个/025样品杯4个/15样品杯6个 |
样品室进气 | 自动:高精度微量进气阀 |
进气接头 | O4快拧接头(外径4M,内径2.5MM气管) |
江作电流 | 5-45MA任意可调 |
颗粒大小 | 6-10NM |
保护功能 | 过流保护、真空保护 |