一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I 越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。
腔体尺寸 | 石英玻璃,直径150mm*高度130mm | |
供电规格 | AC220V,200W | |
溅射电压 | MAX 2500V | |
溅射电流 | MAX 30mA | |
靶材尺寸 | 直径57mm,厚度0.1~0.5mm | |
适用靶材 | 贵金属Pt、Au、Pt-Pd、Au-Pd、Au-Pt, 普通金属Cu、W、Ag、Cr等 | |
样品 台可调高度 | 20-50mm | |
样品台尺寸 | 直径55mm | |
工作真空度 | 1~20Pa | |
气体路数 | 单路 | |
补气流量 | 手动调节 | |
控制 | 触屏控制 | |
真空泵 | VRD-8 |
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