一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I 越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。
1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%
2、真空样品室:直径:160mm,高:110mm
3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm
4.工作真空: 2×10-1—10-1 mbar
5.离子电流表:0-50mA
6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。
7.溅射电压:-1600DVC
8.飞越真空泵(VRD-4):1.1L/S
9.工作室工作媒介气体:空气或氩气等多种气体
10.针阀: 配有进气口,微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管。
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