一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I 越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细小,电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的,加速电压越高,对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或者帕尔贴冷却;也可以采用磁控装置,像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造,当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属,而没有任何损伤!真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,可以采用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则容易反油。
主机规格:305mm×365mm×325mm(W×D×H)
靶(上部电极):金:50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(标配),也可根据实际情况配备银靶、铂靶等
样品室:硼硅酸盐玻璃160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸:Ф50mm
真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
离子电流表: 电流:50mA
定时器: 时间:3600s
微型真空气阀:可连接φ3mm软管
可通入气体: 多种
电压: -1600 DCV
输入电压:220V(可做110V),50HZ
机械泵:标准配置2L/S(国产VRD-8)
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