一般工作距离可调，距离越近，溅射速度越快，但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现，真空度越低，I越大，溅射速度越快，原子结晶晶粒越粗，电子轰击样品（阳极）产生的热量越高；真空度越高,I 越小，溅射速度越慢，原子结晶晶粒越细小，电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的，加速电压越高，对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品，需要对样品区进行冷却，水冷或者帕尔贴冷却；也可以采用磁控装置，像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造，当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属，而没有任何损伤！真空中的杂质越多，镀膜质量越差。一般黄金比较稳定，可以采用空气作为等离子气源，而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高，动量越大，溅射越快，但晶粒会较粗，连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空，否则容易反油。
仪器多机尺寸：长610mmX竟420mmX言220mm(注：含腔体总高490mm)
工作腔室尺寸：：金篇腔体：直径260mmX高270mm(外尺寸）
直径210mmX高270mm(内尺寸)
靶材尺寸：室径50mmX罩3mm(图契材材质不司星度有所不司）
靶材料：标配一杂直径50mmX03mm的金起（可渡射弱磁性金属膜）
靶枪冷却方式：水冷
真空系统：抗冲击涡轮分子泵，抽速为300L/s
前级机械泵：抽速为4L,带防返油电磷阀及油污拉滤器
真空测量：采用复合真空计些测真空
极限真空度：5×10Pa(10分钟可到5×10Pa)
电源：官流恒流电源：
翰入克压：220W
输出电压：0-600r可话
输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调
教样台：旋装台（直径尺寸用户可选，不能超过中150mm)
工作气体：Ar笺管性气体（警自备气瓶及减压阀）
气路：谁射喜空度手动道整
沉积速宝：0-200nm
水冷：自循环冷却水机
电源电压：220V50Hz
启动功室：3KW
保修：贰年
价格面议
