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Diener 等离子清洗机选购件

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称上海尔迪仪器科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/5/26 9:31:37
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上海尔迪仪器科技有限公司是一家代理经销国内外仪器的专业公司。 秉承“销售*仪器、提供优质服务”的宗旨,在制药、化工、环保科研.大学、医学等领域开拓了广泛的市场,并赢得了广大用户的支持和信赖。尔迪在今后的发展中,将贯彻诚信、服务、务实、创新的经营理念,-如既往地把国内外优秀的仪器设备介绍并提供给国内的用户。孜孜追求,不懈努力,不断提高服务水平,为提升用户的检测水平和科研水平贡献各自的绵薄之力,与广大用户共同享受成果,在互利协作中共同进步。我司代理德国Diener全线等离子表面处理设备,低压等离子表面处理设备: ZEPTO. ATTO. FEMTO、 PICO. NANO. TETRA系列及非标定制型;常压等离子表面处理设备: PL ASMABEAM、PLASMABEAM PC. PLASMABEAM DUO. PLASMABEAM MINI及APC500电晕设备。Diener免费提供500多种工艺参数,在德国总部有多名工艺工程师,并且拥有自已的工艺开发实验室,可以为客户提供完整的工艺参数。尔迪仪器于2015年取得Diener全线产品的售前与售后服务资质(中国唯- ),尔迪仪器提供12小时的响应服务, 24小时的。2016年初,尔迪仪器与Diener共同在上海组建了实验室,为中国客户免费提供售前服务,包括样机试用、产品工艺开发及验证及为客户提供批量处理服务。
Diener 等离子清洗机选购件 产品信息

等离子设备的选装件和配件

我们的等离子设备具有以下选装件/配件 - 其在大多数情况下可以加装 - 可用:

2.45 GHz-发生器(微波)

功率达到 0 - 850 瓦特,发生器拥有一个 PC 接口。主要应用领域为活化、清洗、蚀刻、半导体(前端)、半导体(后端)、等离子体聚合。

13.56 MHz-发生器

为了符合 DIN EN 55011 标准,我们的 13.56 MHz 发生器经过石英稳定化处理。阻抗匹配是固定的,手动和自动均可。 主要应用领域为活化、清洗、蚀刻、半导体(前端)、半导体(后端)、等离子体聚合。

40 kHz-发生器

仅可进行自动阻抗匹配,其功率具有两个版本。主要应用领域为活化、清洗、蚀刻、半导体(后端)、等离子体聚合。

2 路 2 通方向阀用于液体计量

阀门用于针对性计量单体。

活性炭过滤器

活性炭过滤器便于更换。

真空抽吸过滤器

防止真空泵被飞出的零部件损坏,其涂层防止受到污染。

自动门

一扇在工艺流程开始时会自动关闭的门。

条形码读取器

用于跟踪批次。

加热型腔室

该腔室可加热至约 80 °C。温度可以调节。其适用于限定的工艺条件和较高的蚀刻速率。

偏置电压测量系统

偏置电压测量系统是一种测量仪器,其适用于kHz 和 MHz 发生器。

鼓泡器瓶

鼓泡器瓶属于聚合配件,并且被用于将液体单体连接至真空腔室。使用一种载运气体进行工作,取代了简单的单体瓶。用单体冲洗载运气体,例如,氩气。

蝶阀

为了对气流进行控制,使用了一个蝶阀,其在真空泵的吸气管道内部主要采用了真空技术。为此,需通过调节阀门来改变管道中的流动阻力,该阀门会或多或少的封闭管道。

当地语言的文件

文件是按照机器指令 89/392/EWG 进行编制的。其并不适用德语和英语。该文件并不会自行随附于设备,必须单独订购。

转鼓

产品支架型用于装载散装件。

压力计

Pirani 传感器或者 Baratron 压力指示器位于真空腔室中。

减压器

减压器用于连接 200 bar 的气瓶。不同的气体需要不同的减压器。故此,针对惰性气体 H2, O2, CF4, C4F8 具有一种减压器,针对 NH3 另具有一种减压器。

连续生产系统

用于在一条自动化加工生产线中整合一台低压等离子设备。

标准备件套件或者 PFPE

备件套件包括:各 1 个夹紧环、1 个密封件、1 个不锈钢波纹软管(真空软管)、1 块窗玻璃、1 个梦密封条、10 个用于等离子设备的小型熔断器,标准套件还包含 1 升用于真空泵的矿物油,PFPE 套件还包括 1 升用于真空泵的 PFPE 油。

标签打印机

在等离子处理之后自动打印标签。

标签读取器

用于对批次进行跟踪。

Faraday 盒 / 笼

用于电敏感零部件。将待处理的零部件置于 Faraday 盒中。可将其从真空腔室中去除。

气瓶架

固定于工作台、架子或者墙壁条处。跨度为 70mm。固定张力皮带,不得活动。其适用于所有气瓶规格。

气体检测仪(德尔格)

在工作场所使用时的额外安全选装件。

半自动控制

关于我们的各种控制变量的详细说明,您可以在菜单项“等离子设备/控制/半自动控制”下找到。

加热板

将待处理的零部件置于加热板上,可将其加热至 150 °C,其适用于规定的工艺条件和较高的蚀刻速率。其具有两个选装件:

配备了温度指示器,在真空腔室的内部安装了一个温度传感器,,借此可以对零部件的表面温度进行测量。 配备了集成于 PC 控制系统中的温度指示器,还在真空腔室的内部安装了一个温度传感器,,借此可以对零部件的表面温度进行测量。 显示屏上会显示温度。

现场安装您的等离子设备

该选项包括了我们服务人员的差旅时间、工作时间以及差旅费。

腐蚀性气体设计结构

阀门均为不锈钢材质,配管均为不锈钢材质。如果采用等离子体聚合法或者使用腐蚀性气体,例如,NH3, H2O, CF4, SF6 的时候,则具有强制性要求。

客户的产品支架

标准情况下,我们的设备总是和一个产品支架一同交付的。附加或者其他设计结构 - 用于实现等离子设备的使用 - 可在与 Diener electronic 公司协商之后制作完成。

喷漆/玻璃板套件(无 LABS 测试)

用于进行油漆湿润干扰测试的配件。供货范围:5 灌喷漆,每灌 400 ml。100 块玻璃板,每块  90 mm x 110 mm。

真空腔室慢速通风装置

通过一个过滤器对真空腔室进行缓慢的通风。这样可以防止腔室中的小型零部件的急速旋转。

真空腔室的慢速抽吸装置

通过旁路阀对真空请示进行缓慢的抽吸。这样可以防止腔室中的小型零部件的急速旋转。

较长的真空腔室 (Femto, Pico, Nano, ...)

真空腔室可以采用不锈钢材质、硼硅玻璃或石英玻璃材质。腔室闭锁件可选择盖子或者配有铰链的门。真空腔室的长度取决于您对于等离子应用的需要。请和我们联系。

功率指示灯

显示发生器的功率。模拟指示器-仪表。

多层电极

多层电极适用于圆形和/或矩形真空腔室。可以一次对多个零部件进行处理。应用领域为标准等离子工艺。请和 Diener electronic 公司就您个性化电极的确切结构以及制作产品支架的其他材料方面进行洽询。

微波泄漏检测仪

由于可能会用到危险的辐射,所以需为微波设备安装一个微波泄漏检测仪。

单体瓶

聚合配件。用于将液态单体连接至真空腔室。

网络连接

借此可将设备与计算机连接。

OES - 光发射光谱仪

对等离子工艺进行监控,以确保质量。检测等离子工艺的最终产物。OES 只能和一个 PC 控制型设备一同使用。

PC 控制系统

关于我们的各种控制变量的详细说明,您可以在菜单项“等离子设备/控制/PC 控制”下找到。

PCCE-控制系统

基于 Windows CE 环境,配有触摸面板。关于我们的各种控制变量的详细说明,您可以在菜单项“等离子设备/控制/PCCE 控制”下找到。

聚合配件

包括蒸发瓶、一个天平秤、计量泵、加热器、可能还有支架。

工艺气体-气瓶

氧气-气瓶用作工艺气体的连接,其为 2.5 和 10 升规格,氢气-气瓶的规格为 2 升,氩气-气瓶的规格为 5 升。 针对气体供应,需将特殊的运输条件考虑在内。如果使用的是出租设备,则必须购买气瓶。

石英玻璃舟皿

共提供两种规格。用于超高纯度等离子工艺或者晶片处理。

RIE-电极

分为圆形和矩形两种,均被不锈钢材质,可获得较高的蚀刻速率。应用领域为各向异性和各向同性蚀刻。

具有气体喷淋的 RIE 电极

矩形,不锈钢材质。通过均匀的气体分布,可获得较高的蚀刻速率。

卷到卷系统

例如,用于处理膜 / 引线框架。

氧气发生器

环境空气中会产生氧气。型号 Kröber O2。氧气输出率:3-6 l/min。

安全阀

用于采用,例如,氢气、乙炔...

专用电极和产品支架

请和 Diener electronic 公司就您个性化电极的确切结构以及制作产品支架的其他材料方面进行洽询。

特殊法兰 / 其他法兰

如果需要用到的接口数量超过准备好的接口数量,则可以使用特殊法兰。

特殊真空腔室

按照 DIN 12198 标准,在我们的设备附近(观察窗)进行了紫外线辐射测量。结果:无害。特殊真空腔室具有圆形配盖子的结构,以及矩形配门(门配有铰链)的结构,其为铝制结构,还可以通过开孔直径和内部大小来进行区分。请和我们联系。

标准电极,圆形或者矩形

不锈钢板/铝板材质,适用于标准等离子工艺。

TEM-样品架

特殊装置,用于从外部导入等离子体腔室。可以提供任何尺寸。请告知我们您的零部件的尺寸/图纸。

温度指示器

腔室温度的温度指示器,不含加热板。真空腔室内部安装了一个温度传感器。可借此测量零部件的表面温度。温度指示器也可以集成于 PC 控制系统之中。会在显示屏上显示温度。

测试墨水-套件

测试墨水用于对表面张力进行简单分析。一个套件中包含了 28, 38, 56, 64, 72 和 105 mN/m。其他数值需按要求提供。

热蒸发器

适用于具有较低蒸汽压力的基材。 杯口直径:16 mm,杯容量: 0,1 l.屏蔽等离子效果,控制温度( 500 °C )和温度上升速度(可达 250 °C/min )。需通过小法兰结构进行连接。

真空腔室为玻璃材质(硼硅或石英)

硼硅玻璃材质的真空腔室适用于高纯度等离子工艺。石英玻璃材质的真空腔室适用于超高纯度等离子工艺。

不锈钢材质的真空腔室

不锈钢材质的真空腔室适用于标准等离子工艺。

真空泵泵座

含矿物油或者 PFPE 油的旋片泵或干运行泵。供货时泵已经充满了油。

全自动控制

关于我们的各种控制变量的详细说明,您可以在菜单项“等离子设备/控制/全自动控制”下找到。

用于处理粉末的装置

在一个旋转式气瓶中处理粉末。充注的时候,可以从设备中将气瓶取出。

清洗袋

用于在清洗机中对小型零部件进行预清洗。规格:500 mm x 300 mm. 最小订购量:20 件 -

水冷系统

配有滚轮的水-气-冷却装置,适用于移动式应用。通过泵保护电路的 2 个转换触点进行无电位型连接。

为您的等离子设备提供维护服务

Diener electronic 公司提供的维护服务包含一种无缝衔接服务。换油、检查所有连接、密封件、插头等,泄漏率试验、校准压力传感器以及功能检查。关于维护和服务方面的更多信息请点击菜单项“咨询/服务”。

清洗干燥器

用于在等离子处理之前对小型零部件进行初步清洗。仅用于很脏的零部件。制造商: Miele: 型号 WT 2670 WPM.

水冷式产品支架-板件

水冷式板件安装于腔室底部,供货时还包含了水泵和水箱。其用于对热敏感的零部件进行冷却。

其他软件功能

软件可随时扩展其他选项。请告知我们您的要求。

额外的气体通道

针型阀: 我们的设备可以配备任何数量的针形阀。标准情况下,Femto 型等离子设备配备了 1 - 3 个,可按照要求配备更多针型阀。

额外的 MFCs

MFCs: 在控制 PC 和 PCCE 的时候需要用到。我们的设备可以配备任何数量的质量流量控制器 (MFCs)。


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