设备采用高效机械手，重复定位精度高、产能高，自动完成匀胶、显影工艺；配备烘烤及冷却单元，工艺参数数字化检测控制，自由编制、修改、储存、调用工艺程序；故障、生产工艺参数等记录等可长期保存备查；操作简便，维修便利。主轴电机采用进口交流无刷伺服电机，保证旋转转速、加控制精度高、重复性、稳定性好；光刻胶采用精密计量泵供应，精度高，供液稳定，出胶量设定方便。 晶片尺寸
2-6英寸，圆形及方形基片，光刻胶旋涂及显影工艺
主要技术参数
1、晶片尺寸： 2-6英寸
2、上下料方式： 高效机械手自动传送
3、离心机转速
额定转速： 6000 rpm
加速度： 30000rpm/s
最小调整量： 1rpm
转速精度： ±1rpm（50 rpm～6000 rpm）
4、吸盘(Chuck)
夹持方式： 真空吸附
吸盘真空检测： 数显真空压力传感器
5、 收集杯材质(CUP)： PP，气液分离排放 ，腔体底部倾斜式曲面、废液、排风分离
6、 CUP自动清洗功能： 有(与预清洗RINSE为同一管路)
7、 CUP结构： 4层CUP，增加导流层
8、 电机漏液防护功能： 有
9、 光刻胶/显影液过滤： 有，0.1um/0.2um可选；FFU可选配氨分子过滤装置
10、 热/冷处理单元： 可选升降过程可控的顶针结构实现渐进式加热/冷却过程
普通热板温控： 50.0—120.0℃； ≤±0.6℃
150.1—180.0℃； ≤±0.8℃
高精度热板温控：50.0—90.0℃； ≤±0.5℃
90.1—120.0℃； ≤±0.6℃
120.1—150.0℃； ≤±0.7℃
冷板温控： 20.0—25.0℃；≤±0.1℃
11、HMDS: 可选，渐进式加热/降温可选
12、光刻胶供应： 采用高精度气动/电动计量泵
13、显影液供应： 采用N2加压
14、药液温控： 20℃~25℃ ±0.1℃； 水浴恒温
15、滴胶精度：±0.1ml ；回吸精度：2±0.5mm；滴胶范围：0.6-3ml
16、光刻胶胶嘴：数量≤3，粘度≤10000CP，可选配BARC。胶嘴自动清洗/胶嘴保湿功能
17、预清洗胶嘴： RRC RINSE 1个
18、工作方式： 自动供胶，自动显影，自动取送片，连续传片1000片无碎片
19、恒温恒湿控制：可选精密温湿度控制器 （THC）
20、边缘曝光WEE单元：365（I-line）；照射范围0.5~10mm；UV 照射：linear/ Round
21、与光刻机联机：可选择interface接口，与光刻机进行联机
22、颗粒度控制： 空跑运行测试，新增颗粒≤20颗（0.2um）
23、匀胶膜厚均匀性：Wafer ≤1% ； Wafer to Wafer≤1% （Max-Min）/（2*均值）
24、显影CD均匀性： within Wafer≤3%，Wafer to Wafer≤3% （Max-Min）/（2*均值）
应用行业
广泛服务于半导体、LED、封装、MEMS、OLED、SAW、光通信、科研等领域
宁波润华全芯微电子设备有限公司(ALLSEMI)，简称ASI，位于文化底蕴丰厚、风景秀丽、交通便利的宁波余姚市，在北京、武汉和厦门设有*分支机构。
公司汇聚了一批高素质专业人才，致力于民族半导体装备产业的振兴，专注于新型电子器件生产设备的研发、设计、销售及售后服务。全芯公司与中国台湾、韩国多家公司合作，可提供整线设备解决方案和电子科技领域内的技术咨询服务。
公司通过ISO9001质量体系认证，秉承“专业、诚信、创新、共赢”的经营理念广泛服务于化合物半导体、LED、SAW、 OLED、光通讯、MEMS、*封装等新型电子器件制造领域， 配备了快速响应的销售和技术服务团队。
宁波润华全芯微电子设备有限公司将以*可靠的产品，优质的服务赢得客户信赖，成为一家具有国际影响力的半导体装备及工艺解决方案提供商。
显影机
标准型全自动匀胶显影机 产品信息
