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硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机
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  • 硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机

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具体成交价以合同协议为准
产品型号: XMD2000
厂商性质: 3
地: 苏州市
更新时间: 2020-10-16 15:15:43
浏览次数: 705
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详细介绍

硫酸头孢喹诺混悬液研磨分散机

硫酸头孢喹肟混悬液研磨分散机,硫酸头孢喹咪混悬液研磨分散机 ,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

1、因目前实验设备转、定子间隙不可调,是否适用于制备以以上附加剂的混悬剂

2、该机粉碎以上附加剂,会不会造成定转子接触部分磨损

3、该机能否实现细碎至通过颗粒直径****小于50um。其中D95

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*终产品: 混悬液

用途: 混悬液

工艺要求: 与药物接触部分为

原材料: 硫酸头孢喹肟

液体(%): 三乙酸甘油酯、氢化蓖麻油、丙二醇

固体(%): 硫酸头孢喹肟

密度(kg/m温度(℃): 35

 将头孢喹肟原料药加入至乳化罐,加适量三乙酸甘油酯,经研磨分散机进行分散均匀,加入丙二醇,混合均匀。

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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