原子分辨率300 kV透射电子显微镜 在精细加工技术已进入到亚纳米级水平的半导体，*材料的研发领域，原子分辨率电子显微镜正在成为日益重要的，的工具。 为了满足这种需求，日立公司研发出了透射电子显微镜 H-9500，此款高分辨透射电子显微镜不仅具备实地验证过的各种优*性能，而且配置了很多满足客户多种需求的独*功能，并采用了新的数字技术，便于用户及时快速获取原子水平的样品结构信
原子分辨率300 kV透射电子显微镜
在精细加工技术已进入到亚纳米级水平的半导体，*材料的研发领域，原子分辨率电子显微镜正在成为日益重要的，的工具。
为了满足这种需求，日立公司研发出了透射电子显微镜 H-9500，此款高分辨透射电子显微镜不仅具备实地验证过的各种优*性能，而且配置了很多满足客户多种需求的独*功能，并采用了新的数字技术，便于用户及时快速获取原子水平的样品结构信息。
用户友好型的操作系统
·和Windows®兼容的图形用户界面设计
·快速的样品分析，1分钟换样，5分钟内升高压至(300 kV)
高稳定性，高分辨率透射电子显微镜
·点分辨率为0.18 nm，晶格分辨率为0.1 nm
·稳定可靠的5轴优中心测角台
性能好，可靠性高
·得到市场验证的10级加速器电子枪设计
·阻抗式高压电缆设计
*档可选附件
·通用样品杆，在日立公司的TEM, FIB 和 STEM系统均可使用
·可为原子分辨率的动态研究提供加热，冷却和气体注入等多种样品杆
技术参数
| 项目 | 说明 |
| 分辨率 | 0.10nm(晶格分辨率)
0.18nm(点分辨率) |
| 加速电压 | 300kV、200kV*1、100kV*1 |
| 放大倍率 | 连续放大模式 | 1,000～1,500,000× |
| 选区模式 | 4,000～500,000× |
| 低倍模式 | 200～500× |
| 电子枪 | 灯丝 | LaB6(六硼化镧灯丝，直流加热) |
| 灯丝交换 | 自动升降式电子枪 |
| 高压电缆 | 阻抗电缆 |
| 照射系统 | 透镜 | 四级透镜 |
| 聚光镜光阑 | 4孔可变 |
| 探针尺寸 | 微米束模式：0.05 - 0.2 µm(4级)
纳米束模式：1 - 10 nm(4级) |
| 电子束倾斜 | ±3° |
| 成像系统 | 透镜 | 五级透镜 |
| 聚焦 | 图像摇摆调整
利用像散监视器进行正焦补偿
聚焦优化 |
| 物镜光阑 | 4孔可变光阑 |
| 选区光阑 | 4孔可变光阑 |
| 电子衍射 | | 选区电子衍射
纳米探针电子衍射
会聚束电子衍射 |
| 相机长度 | 250 - 3,000 mm |
| 样品室 | 样品台 | 5轴优中心海帕测角台 |
| 样品尺寸 | 3mmΦ |
| 样品位置追踪 | X/Y = ±1mm, Z = ±0.3 mm
通过CPU控制马达驱动 |
| 样品位置显示 | 自动驱动，自动跟踪 |
| 样品倾斜 | α = ±15°, β = ±15°
(日立双倾样品台*2) |
| 防污染 | 冷阱 |
| 烘烤功能 | 中温烘烤功能 |
| 观察室 | 荧光屏 | 主屏：110 mmΦ
聚焦屏：30 mmΦ |
| 目镜 | 7.5× |
| 照相室 | 区域选择 | 整张照相/半张曝光 |
| 胶片 | 25张(2套胶片盒) |
| 图形用户界面 | | 操作系统：Windows XP® |
| 显示器 | 19英寸显示器 |
| 功能 | 数据库，测量，图像处理 |
| 数码CCD 相机*3 | 相机耦合 | 透镜耦合 |
| 有x像素 | 1,024 × 1,024 像素 |
| A/D 分辨率 | 12位 |
| 真空系统 | 电子枪 | 离子泵：60 L/s |
| 镜筒 | 涡轮分子泵：260 L/s |
| 观察室/照相室 | 扩散泵：280 L/s
前级泵：135 L/min × 3台 |
*1：放大倍率校准为可选项
*2：可选件
*3：本规格适用于可选的1,024 × 1,024像素的数码CCD相机以上规格是在加速电压为300 kV时的*诺
