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低真空超高分辨场发射扫描电子显微镜/超大面积硅漂移探测器能谱

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产品简介

性能指标电镜分辨率:高真空模式:1.0nm@15kV

详细介绍

性能指标

  1. 电镜分辨率:
  2. 高真空模式:1.0nm @ 15kV;1.6nm @ 1kV;
  3. 低真空模式:1.5nm @ 10kV;1.8nm @ 3kV;
  4. 电镜加速电压:200V~30kV,连续可调,电镜着陆电压:50V~30kV,束流大小:0.6pA~100nA;
  5. 电镜物镜模式:磁浸入模式UHR、无磁场模式HR;
  6. 检测器:高真空二次电子检测器(ETD)、极靴内二次电子检测器(TLD)、极靴内背散射电子检测器(TLD-B)、低真空二次电子检测器(LVD)、低真空超高分辨二次电子探测器(Helix)、低电压高衬度背散射电子检测器(vCD)、样品室红外CCD探测器;
  7. EDS分析分辨率:125eV(Mn Kα),EDS元素检测范围:Be4-Pu94;
  8. EBSD分析:花样平均角度偏差MAD≤0.5,在线标定解析速度:640点/秒(8×8 binning) 

主要应用

  1. 具有一代高稳定性、大束流肖特基电子枪,适用于样品的在各种条件下的分析。
  2. 的电子光学系统和检测性能,包括:磁浸入模式、电子束减速模式、极靴内探测SE/BSE、vCD,能对信息作和图像的化。
  3. 优异的低加速电压性能,可以获得更表面的形貌信息,并减小电子束对样品损伤。
  4. 优异的低真空性能,可以对不导电样品在不镀膜的条件下直接进行高分辨观察。 超洁净的机械泵和涡轮分子泵真空系统。
  5. AZtec系统利用的Tru-l算法进行衍射带识别和标定,利用更准确的Tru-Q修正算法进行EDS数据处理,将EDS和EBSD集成与一体,可以对材料的微观组织进行形貌观察、元素组成及分布、结构和取向等的表征完整,对未知相进行更准确的鉴定和分析。
  6. 可制作3D图像和进行伪色处理。

样品要求

  1. 不含有Fe、Co、Ni,无磁性且不会被磁化(EBSD样品除外);
  2. 样品高度小于15mm,直径小于30mm;
  3. 固体干燥样品;
  4. 微生物类样品(如孢子等)请先提供相关文献,确保无传染性,否则不予测试。 

 

仪器说明

  1.  Nova NanoSEM 230扫描电镜配合超大面积SDD能谱仪和快速型电子背散射衍射EBSD,可应用于各种挑战性的材料的形貌观察、元素组成和分布测试、结构和取向分析。
  2. 如金属、纳米颗粒和粉体、纳米管和纳米线等各种纳米材料、多孔物质(如硅、羟基磷灰石)、 塑料电子器件、玻璃基体材料、有机材料、高分子物质、金刚石薄膜、半导体截面、晶体材料、生物样品、各类薄膜材料和截面等。

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