HD-550L 摄像头模组清洗机是摄像头模组专业清洗机，用于摄像头类产品，如wafer，CMOS, Holder等表面微尘清洗,摄像头类模组类产品表面粉尘，杂质专用清洗机器；镜面锈钢一体化封闭机身，对工作环境无污染，适合无尘车间使用要求；可更换清洗盘清洗多种产品，清洗盘按产品定做.
详情说明
机器简介：
HD-550L是摄像头模组专业清洗机，用于摄像头类产品，如wafer，CMOS, Holder等表面微尘清洗。
机器特点：
1、摄像头类模组类产品表面粉尘，杂质专用清洗机器；
2、镜面锈钢一体化封闭机身，对工作环境无污染，适合无尘车间使用要求；
3、可更换清洗盘清洗多种产品，清洗盘按产品定做；
4、PLC自动控制，操作方便快捷；
5、透明防爆前门，安全作业，便于观察；
6、全系统仪表显示，随时监控清洗状况；
7、采用二流体清洗，清洗精度高，对产品零损伤，纯水消耗量极小；
8、旋转式喷杆，避免二次污染产品；
9、配备静电消除装置、腔壁加热装置，辅助清洗达到效果；
10、配备2级空气过滤系统，压缩空气符合ISO8573、1标准；
11、机身紧凑，占用面积小；
12、使用超纯水清洗，符合RoHS标准。
机器规格：
设备外观尺寸 | 880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H） |
清洗盘规格 | 定制（清洗盘直径＜ø550mm) |
清洗方式 | 二流体清洗 |
干燥方式 | 高速离心甩干 |
电源供应 | AC380V 50HZ |
总功率 | 7KW |
耗电量 | 清洗时: 3.5kw/h | 待机时: 1kw/h |
传动马力 | 3HP |
环境过滤方式 | 0.3μm；99.999% |
空气过滤方式 | 1μm×1；0.01μm×1 |
离心转速 | 100-1500RPM |
纯水消耗量 | 0-7L/Min |
气体消耗量 | 10-30m³/H |
清洗压力 | 液体压力：3-8Kgf/cm² 空气压力：0.2-0.5Mpa |
DI水供应 | 流量：＞7LPM 电阻率：＞17MΩ |
气源供应 | 压力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m³/H（洁净度符合清洗要求） |
纯水入口径 | ø12mm软管或PT1/2″内螺纹 |
气源入口径 | ø12mm气管 |
排水出口径 | PT 1″内螺纹 |
排气口口径 | 4″×2（需加强抽风,风速大于3m/sec） |
机器净重 | 450KG |
