武汉茂迪科技有限公司
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自动化工业级原子力显微镜，助力高分辨率3D测量ParkSystems推出的NX-3DM全自动原子力显微镜系统，专为垂悬轮廓、高分辨率侧壁成像和临界角测量设计
自动化工业级原子力显微镜，助力高分辨率3D测量
Park Systems推出的NX-3DM全自动原子力显微镜系统，专为垂悬轮廓、高分辨率侧壁成像和临界角测量设计。借助的XY轴和Z轴独立扫描系统和倾斜式Z轴扫描器，NX-3DM成功克服精确侧壁分析中的法向和喇叭形头所带来的挑战。在True Non-Contact?模式下，NX-3DM可实现带有高长宽比的柔软光刻胶的无损测量。
的精确度
随着半导体越变越小，设计如今需要做到纳米级，但是传统的测量工具无法满足纳米级设计和制造所要求的精确度。面对这一行业测量挑战，Park原子力显微镜取得众多技术突破，如串扰消除，其可以实现无伪影和无损成像；全新的3D原子力显微镜，让侧壁和侧凹特征的高分辨率成像成为可能。
的通量
受限于低通量，纳米级设计无法用于生产质量控制中，但原子力显微镜让这一切成为可能。随着Park Systems发布的高通量解决方案，原子力显微镜也得以进入自动化线上制造领域。这其中包括创新的磁性探针更换功能，成功率高达99%，高于传统的真空技术。此外，流程和通量优化需要客户积极配合，提供完整的原始数据。
成本效益
纳米测量的精确性和高通量需要搭配高成本效益的解决方案，才能够从研究领域扩展到实际生产应用中。面对这一成本挑战，Park Systems带来了工业级的原子力显微镜解决方案，让自动化测量更快、更高效，让探针更耐久！我们放弃了慢速又昂贵的扫描电子显微镜，转而采用高效、自动化且价格实惠的3D原子力显微镜，进一步降低线上工业制造的测量成本。现如今，制造商需要3D信息来表现沟槽轮廓和侧壁变异特征，从而准确找到新设计中的缺陷。模块化原子力显微镜平台实现快速的软硬件更换，从而是升级更划算，不断优化复杂且苛刻的生产质量控制测量。此外，我们的原子力显微镜探针使用寿命延长至少2倍，进一步减少购置成本。传统的原子力显微镜采用轻敲式扫描，这让探针更易磨损，但我们的True Non-Contact?模式能够有效地保护探针，延长其使用寿命。
* 应用
NX-3DM的倾斜式Z轴扫描器设计让探针能够扫描到光刻胶的侧壁和侧凹结构。
· 的XY轴和Z轴解耦扫描系统和倾斜式Z轴扫描器
· Z轴扫描器可在 -19到+19度和-38到+38度之间随意摆动
· 法向高长宽比的探针带来高分辨率成像
· XY轴扫描范围可达100 μm x 100 μm
· 高强度Z轴扫描器带来25 μm的Z轴扫描范围
借助超锋利的探针，NX-3DM的倾斜式Z轴扫描器可接近侧壁，带来高分辨率的侧壁粗糙度细节。
· 侧壁粗糙度测量
· 精确的侧壁角度测量
· 垂直侧壁的临界尺寸测量
的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的细节。
· 业内最小的细节线上测量
· 柔软光刻胶无损测量
· 探针磨损更少，让高质量和高分辨率成像效果更佳持久
· 无需轻敲式成像中的参数依赖结果
Park NX-3DM的特点
倾斜式Z轴扫描系统
NX-3DM匠心地将Z轴扫描器倾斜设计，且通过的串扰消除原子力显微镜平台，XY轴与Z轴扫描器解耦。用户可以扫描到垂直侧壁以及各种角度的侧凹结构。与配有喇叭形头的系统不同，XE-3DM可使用高分辨率高长宽比的探针。
全自动图形识别
借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件，Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。
自动测量控制
自动化软件让XE-3DM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。
真正非接触模式和更长的探针使用寿命
得益于的高强度Z轴扫描系统，XE系列原子力显微镜让真正非接触模式成为可能。真正非接触模式借助了原子间的相互吸引力，而非相互排斥力。
因此，在真正非接触模式下，探针与样品间的距离可以保持在几纳米，从而盖上原子力显微镜的图像质量，保证探针的锋利度，延长使用寿命。
行业的本底噪声
为了检测最小的样品特征和成像最平的表面，Park推出行业本底噪声（<>
*扫描范围为0 nm x 0 nm，探针停留在一个点
*0.5增益，接触模式
*256 x 256像素
* 选项
高通量自动化
借助自动探针更换功能，自动测量程序能够无缝衔接。该系统会根据参考图形测量数据，自动校正悬臂的位置和优化测量设定。创新的磁性探针更换功能，成功率高达99%，高于传统的真空技术。
自动晶片装卸器(EFEM或FOUP)
您可以在XE-3DM中加装自动晶片装卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度无损晶片装卸机械臂能够保证NX-3DM用户享受到快速且稳定的自动化晶片测量服务。
离子化系统
NX-3DM可搭载离子化系统，以有效消除样品的静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。
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