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详细摘要： 以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚...
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详细摘要： JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高...
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详细摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei的技术实现了高速、高精...
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详细摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 的技术实现了高速、高精度和...
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详细摘要： JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 ...
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详细摘要： 高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
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详细摘要： JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具高水平的产出量和定位精度，能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信...
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详细摘要： JES-X3系列电子自旋共振谱仪，经过进一步改良低噪音耿氏振荡器，达到了的灵敏度。由于人们已经认识到样品中极少量的未成对电子会在很大程度上左右着材料的性能，因此...
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