一般工作距离可调，距离越近，溅射速度越快，但热损伤会增加。离子流的大小通过控制真空压力实现，真空度越低，I越大，溅射速度越快，原子结晶晶粒越粗，电子轰击样品（阳极）产生的热量越高；真空度越高,I 越小，溅射速度越慢，原子结晶晶粒越细小，电子轰击样品产生的热量小。加速电压为固定,也有可调的，加速电压越高，对样品热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。有些热敏样品，需要对样品区进行冷却，水冷或者帕尔贴冷却；也可以采用磁控装置，像电磁透镜一样把电子偏离样品。经过这样的改造，当然会增加很高的成本。可以在石蜡表面溅射一层金属，而没有任何损伤！真空中的杂质越多，镀膜质量越差。一般黄金比较稳定，可以采用空气作为等离子气源，而其他很多靶材则需要惰性气体为好。气体原子序数越高，动量越大，溅射越快，但晶粒会较粗，连续成膜的膜层较厚。保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大好处。不要让机械真空泵长期保持极限真空，否则容易反油。
仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H）
真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H）
蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择
操作真空： 4×10-2mbar
工作电压： 0-30V /AC
蒸碳电流： 0-100A
蒸碳时间： 0-1s
真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)
价格面议
