12025-01-01 05:02:0427
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简要描述：集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备，以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。
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