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紫外掩膜曝光机

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产品型号FPKLOE-UV-KUB2

品       牌

厂商性质其他

所  在  地

更新时间:2023-04-02 09:27:29浏览次数:389次

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产品简介

这款紫外掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,同时可根据用户需求提供385nm,395nm和405nm紫外光源,适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光

详细介绍

这款紫外掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,同时可根据用户需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光
紫外掩膜曝光机是单色紫外发射,具有35mW/cm^2的功率密度,在4英寸的面积上光源均匀度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光机。
这套紫外掩膜曝光机采用了的LED光源技术,实现单波长紫外冷光源照明,有效消除热效应,非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光机结构紧凑,方便移动,采用触摸屏控制操作,有效安全控制紫外曝光室。
紫外掩膜曝光机的LED紫外光源寿命高达1万小时,非常可靠而耐用,不需要日常维护,非常方便使用。

紫外掩膜曝光机特点
非常紧凑,桌上使用设计
的紫外单色LED冷光源
工作面积为4英寸晶圆
适合所有光刻胶
分辨率:2微米
无需预热,直接开机使用
实时温度控制功能确保均匀曝光
紫外照明功率强度可调
可单次曝光或连续曝光
适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用

紫外掩膜曝光机参数
波长:365nm 或405nm 任选
功率密度:40mW/cm^2
曝光过程中衬底温度上升:<1摄氏度
曝光时间:1秒到18小时
可编程控制循环:10个
分辨率:2微米
外部尺寸:260x 260x260mm
重量:8.2kg
彩色触摸屏:5.7英寸
供电要求:230V
用电功耗:180W

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