中国.鑫有研电子科技有限公司
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无掩膜光刻机(科研型）型号DS-2000/14K1．技术特征采用DMD作为数字掩模，像素1024×768采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约1mm×0.75mm采用创新技术——积木错位蝇眼透镜实现均明
无掩膜光刻机(科研型）
型号 DS-2000/14K
1．技术特征 采用DMD作为数字掩模，像素1024×768
采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约1mm×0.75mm
采用创新技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，
可适应100mm×100mm基片。
2．技术参数
光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；
照明均匀性：±2%； 物镜倍率：1倍
曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
工件台运动定位精度：±1.5μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上
基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm.5mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）
无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等
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