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中国.鑫有研电子科技有限公司

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U2000D系列大面积光制机

详细摘要： RE-2000系列光刻机型号：2000D（大面积紫外光刻机）一.技术特征用途：在平板显示器、大尺寸光栅、码盘等刻划中具有突出的功能与用途
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
无掩膜数字光刻机（工业型）

详细摘要：无掩膜数字光刻机(工业型）DS-2000/14G技术特点：该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源，用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板，采用积...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE-2000S/25型双面光刻机

详细摘要：双面对准紫外光刻机型号：URE-2000S/25型　该机采用创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
无掩膜数字光刻机（科研型)

详细摘要：无掩膜光刻机(科研型）型号DS-2000/14K1．技术特征采用DMD作为数字掩模，像素1024×768采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约1mm×0....
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
台式光刻机(教学型号)图文展示

详细摘要：台式光刻机型号：USE-30R（标准教学型））简单介绍：光刻机：(英文名：MaskALIGENER)又名曝光机,该型号光刻机创新采用采用双目双视场显微镜对准；球...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE-2000S/B型双面光刻机

详细摘要：双面对准紫外光刻机型号：URE-2000S/B型　该机采用创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE-2000/A12大面积自动光刻机

详细摘要： URE-2000/A12大面积自动光刻机产品技术特征l、曝光波长采用纯净365nm，冷光照明（曝光面能量大于10mW/cm，温度小于30℃）
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE2000/25型精密光刻机

详细摘要：单面紫外光刻机型号：URE-2000/25简单介绍：光刻机：(英文名：MaskALIGENER)又名曝光机,该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调平；真...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE2000S/A型双面对准紫外光刻机

详细摘要：双面对准紫外光刻机型号：URE-2000S/A型　该机采用创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE2000/17型单面紫外光刻机

详细摘要：单面紫外光刻机型号：URE-2000/17简单介绍：光刻机：(英文名：MaskALIGENER)又名曝光机,该型号光刻机创新采用采用双目双视场显微镜对准；球碗调...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
TYG-2000/T1步进投影光刻机

详细摘要： TYG-2000/T1步进投影光刻机曝光场面积：10mm×10mm分辨力：1μm
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE2000/35型自动光刻机

详细摘要：单面自动紫外光刻机型号：URE-2000/35（国内主力型销售推荐产品）简单介绍：光刻机：(英文名：MaskALIGENER)又名曝光机,该型号光刻机创新采用三...
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KW-4A型台式匀胶机

详细摘要：台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合硅片,晶片,基片,ITO导电玻璃等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
CKF-121型匀胶显影机

详细摘要：匀胶显影机型号CKF-121净化匀胶显影机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
CFK-411型净化匀胶机

详细摘要：净化型匀胶机型号CKF-411净化匀胶机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
晶圆贴膜机

详细摘要：贴膜机（英文名：WaferMounter）简介：贴膜机是专门用于电子/通讯/半导体等行业贴保护膜及防暴膜,可确保无气泡无擦痕贴膜
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
晶圆清洗

详细摘要：型号：SU-500设备规格：8inch/12inch产品特点：1.外观简洁大方,整机采用PLC控制，易于操作，性能稳定；2.功能：通过喷洒出微小且高压力的纯净水...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
URE2000/35A型自动光刻机

详细摘要：单面自动紫外光刻机型号：URE-2000/35A简单介绍：光刻机：(英文名：MaskALIGENER)又名曝光机,该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
KW-5型台式匀胶机

详细摘要： KW-5型台式匀胶机中国半导体行业协会CSIA推荐中国SIYOUYEN?台式匀胶机：（SpinCoater)适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-07-04 在线留言
晶圆剥膜机

详细摘要：手动剥膜机/手动剥片机：适合于半导体产品切割制程后将其从UV膜，或蓝膜上取下工序
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