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更新时间:2023-08-18 14:31:57浏览次数:174次
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产品简介:处理气量:(1-1500)Nm3/h压力:≤5.0Mpa氢气纯度:≥99.9995%露点:≤-70℃含氧量:≤1.5ppm广泛应用于:熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门
产品简介: 处理气量:(1-1500)Nm3/h 压力:≤5.0Mpa 氢气纯度:≥99.9995% 露点:≤-70℃ 含氧量:≤1.5ppm 广泛应用于: 熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门。
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