CM2000胶体磨，高速胶体磨，实验室胶体磨

胶体磨，高速胶体磨，实验室胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。

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IKN胶体磨它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。

 

胶体磨介绍：

IKN胶体磨具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精Υ细物料的加工设备。

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

 

胶体磨在设计上的突出优点在于：

1、转速14000rpm，相较其它厂家2900转左右高出约三倍：

2、磨头结构更精密并有*设计,使之研磨作用力更大，效果更好。

3、德国进口双端面机械密封拥有*结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。

4、CM2000/4中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。

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胶体磨特点：

CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求

胶体磨磨头介绍：

研磨头表面涂料一层及其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理，这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径，研磨头处形成了一个具有较强的剪切区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒径大小的效果都很理想。

胶体磨技术优势：

1、只进行阀门切换，泵和磨连续运行，真正实现不间断生产 。

2、可据用户需要加工定制，所有型号均预留有外接接口，可扩展其功能及产量，既可固定式建厂生产也可移动式现场生产。

3、有手动/自动一体和手动两种控制模式。

4、可生产超高含量的改性乳化沥青（SBS含量≥4%，沥青含量≥65%）。

5、可生产超高含量的改性沥青（SBS含量≥12%）。

6、现场指导安装、操作，提供*化、Zuixian进的生产工艺和配方。

胶体磨的基本原理：
　　胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物 料重新压入精磨区进行研磨破碎，精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一 级流体的方向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之 后，从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。

　　胶体磨是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，磨擦力及高频振动等作用，有效地被粉碎、乳化、均质、混合，从而获得满意的精细加工的产品。
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