从实验室到产线：纳糯三维Nanoscribe灰度光刻方案正在成为先进封装的“新质生产力”

2025

11-27

14:00:22

 222

　　当先进封装进入“微米级精修、三维化成型”的新阶段，传统光刻技术的台阶式成型瓶颈愈发明显。而纳糯三维Nanoscribe推出的灰度光刻方案，正以“一次成型、精度可控”的核心优势，从实验室的技术突破走向量产产线，成为驱动先进封装升级的“新质生产力”。

灰度光刻先进封装

　　先进封装对芯片互连结构的要求已精确到5μm以下，传统多步光刻不仅效率低下，更易因层间对齐误差影响良率。纳糯三维Nanoscribe的方案搭载自主研发的数字微镜动态调控技术，可通过灰度图像精准控制光能量分布，一次性成型具有连续高度变化的微结构，让凸点、redistribution layer(RDL)等关键结构的加工良率提升至99%以上。

　　从实验室验证到规模量产，这套方案完成了高效衔接。在中科院微电子所的实验室里，它曾助力科研团队将新型封装结构的研发周期缩短40%；如今在某头部封测企业的产线上，其配套的自动化上下料系统与产线MES系统无缝对接，单台设备日产能突破200片晶圆，解决了“技术好用但难量产”的行业痛点。

　　无论是Chiplet封装的微凸点制造，还是射频芯片的三维互连结构加工，纳糯三维的方案都能精准适配。凭借“光刻-检测-修复”的全流程服务，它正成为越来越多封测企业的优选。在先进封装的赛道上，纳糯三维用技术落地力证明：真正的新质生产力，从来都是实验室成果与产业需求的同频共振。

【公司定位】纳糯三维Nanoscribe作为双光子灰度光刻微纳加工制造的先驱和创新者，从科研实验室到工业生产现场，Nanoscribe提供高精度增材制造解决方案，显著简化制造流程、提升效率与精度。

【公司资质】Nanoscribe 的 2GL® 技术受中国国家专_利保护（专_利号：CN110573291B） A2PL技术受中国国家专_利保护（ CN109997081B ）

【主营业务】微纳3D打印、三维微纳加工、无掩膜激光直写光刻、灰度光刻先进封装、光互联纳米制造

【应用领域】微光学、微机械、生物医学工程、光子学技术

【产品优势】Nanoscribe 公司拥有双光子无掩模光刻 3D打印技术，全新Quantum X系列具有专_利双光子灰度光刻(2GL®)，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，A2PL® 技术支持自动检测芯片边缘、光纤核心、晶圆及预结构化基底上的定位标记，并以纳米级对准精度在指定位置直接打印自由曲面光学元件，确保打印结构与光学轴严格对齐。

【产品评价】Quantum X align 系统代表了新一代对准3D打印技术的发展方向，可实现光纤、芯片及晶圆上的高分辨率三维结构制造，并具备自动对准能力，从而支持可靠、低损耗的光子耦合，以及在传感与成像等应用领域的多样化需求.

【品牌客户】哈佛大学，加州理工学院，牛津大学，斯图加特大学，麻省理工学院等

【技术领域】3D微纳加工、双光子加工

【客户反馈】纳糯三维Nanoscribe 的技术在各项关键性突破研究中被提到，出现在2,100多份经同行评审的期刊出版物中

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