真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L
名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中频电源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
层数（Electrode of plies）
6（Option）
有效处理面积（Area）
500（L）*500（W）（Option）
气体通道（Gas）
两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2
产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。
保养维修成本低，便于客户成本控制。
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
等离子清洗机采用的是*的腔体设计
在半导体和LCD等产品的制造过程中，可以使用等离子清洗机来对表面进行清洁，也可以使其表面得到改善，去除外表面所残留的光刻胶、有(机)污染物、溢出的环氧树脂等，还可以使用等离子清洗机来对其表面的性能进行活(化)，增加表面的焊接以及封装能力。除了可以应用于生产制造过程中，还可以应用于FA或者是QA实验室中。
在半导体和LCD等产品的制造过程中，可以使用等离子清洗机来对表面进行清洁，也可以使其表面得到改善，去除外表面所残留的光刻胶、有(机)污染物、溢出的环氧树脂等，还可以使用等离子清洗机来对其表面的性能进行活(化)，增加表面的焊接以及封装能力。除了可以应用于生产制造过程中，还可以应用于FA或者是QA实验室中。
等离子清洗机采用的是*的腔体设计，可以提供好的洁净空间和均匀的等离子分布；其控制操作界面友好，可以进行菜单式的操作和控制，所有的参数也都实时的显示在设备的屏幕之上，能够使操作者随时根据系统的状况来进行系统的诊断和操作。
等离子清洗机主要由三大部分组成：
1. 控制单元。现在的等离子清洗机主要有全自动控制、半自动控制、PC控制、液晶触摸屏控制四种控制单元，而控制单元主要由电源、控制系统、控制按钮和操作显示器等部分组成。
2. 真空腔体。真空腔体就是用于清洗对象物的空间，主要有石英腔体和不锈钢真空腔体。由于其内部采用真空(灭)菌(防)菌以及等离子清洗法，对于腔体压力的承受有着一定的要求，所以需要采用材质较好的腔体进行配置。
3. 真空泵。等离子清洗机的主要动力来源就是真空泵，主要作用是将真空腔体中的空气抽干，达到真空的环境，然后再进行等离子清洗。真空泵主要分为干泵和油泵。干泵主要以电力为动力源，而油泵则使用汽油或柴油为动力源。
