iPHEMOS-MP倒置发射显微镜是一种半导体故障分析系统,旨在通过检测发出的光和热来识别故障位置。
iPHEMOS-MP利用其倒置型设计的优势,在探测时对半导体器件进行背面分析,并结合LSI测试仪顺利运行各种类型的分析。
iPHEMOS-MP包括激光扫描系统,用于获取高分辨率的图案图像。
通过选择针对分析方法优化的检测器,可以执行不同类型的分析,例如排放分析,热分析和IR-OBIRCH分析。 当与用于背面观察的专用探测器结合使用时,iPHEMOS-MP支持从晶圆到单个芯片的灵活测量。
- 可安装两个超高灵敏度摄像头:
用于发射分析和热分析或可见光和近红外光的不同检测波长范围的覆盖范围允许容易地选择与样品和失效模式 匹配的分析技术。
- 最多可安装3个波长的激光器和用于EOP的探头光源
- 适用于各种样品的光学平台
光学平台的工作范围
X +/- 50mm
Y +/- 50mm
Z +/- 20mm
*由于使用探针并干扰样品台或安装NanoLens,工作范围可能比此值窄。