适应方形基片尺寸：8×8inch基片用途：可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式：是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。
配合常压水清洗
高压水清洗
兆声波清洗
毛刷（Brush）清洗
有机溶剂清洗等方式作用：其中0.5微米以上颗粒的去除率接近99%。
再小于的颗粒去除率可根据客户要求提供技术指标。
福芯科技总部座落在”东方之珠”中国香港,在北京、上海、成都设有分公司，是一家专注半导体行业、光电领域销售和服务的设备整合科技公司，公司拥有一支经验丰富的专业技术团队，专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、3D封装、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、集成电路、分立器件、物理、化学、生物等领域。为向客户提供*的设备和专业的技术服务打下了坚实基础，福芯科技目前客户遍及国内集团、科研院所和半导体、光电制造企业，已成功地服务于半导体大型工业客户、、中国航天、中国航空、、中国兵器集团、各所、高校和制造企业等众多合作伙伴福芯科技秉承“客户至上、专业服务，用心服务”的宗旨，为客户提供快捷技术服务和品质设备方案。
Photomask clean 清洗机 产品信息
