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TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂胶显影机

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  • 公司名称青岛佳鼎分析仪器有限公司
  • 品       牌
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/4/4 9:45:04
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青岛佳鼎实验室,坐落于城之向阳地——城阳。自2011年成立之初,便誓将科技之光照耀四方。
十年的时间里,公司因扩展数度搬迁,最后选择接受博士创业园的吸纳并安家落户。与此名交相辉映的是我们30余人的研发团队,也是以博士后为主。这就为我们今后的发展奠定了坚实的基础,使我们在未来的发展中,有底气的大踏步前进。目前,佳鼎实验室已经形成了一站式服务,不仅有实验室分析仪器设备的研发和销售,更有实验室的整体交付。做到了初时毛坯,再见时严谨整洁,随时可以为人类健康贡献自己的力量。
产品服务于各行各业,从科研机构到环境、食品,从医药生物到电子电器。我们从不止步于国内,放眼,我们联合了包括美国赛默飞世尔、日本岛津、在内的多国实验室,并且积累了大量的科研资料,在分析设备的研发领域做了大量的深度工作。
佳鼎实验室坚信以质量为生命,以客户为中心的经营理念,为打造实验室建设规范化而不断奋斗。

日本东京电子公司生产的TEL牌涂胶显影机CLEANTRACKACT8/12,是有着良好性能和可靠性的半导体微电子生产设备,是可对应200/300mm硅片生产的涂胶显影设备
TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂胶显影机 产品信息

日本东京电子公司生产的TEL牌涂胶显影机CLEANTRACK ACT8/12,是有着良好性能和可靠性的半导体微电子生产设备,是可对应200/300mm硅片生产的涂胶显影设备。

半导体制造设备涂胶显影机,应用于半导体制造的光刻工艺中,是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。在该设备的涂胶(coat)单元中,硅片上面的感光剂首先被涂布,后被送到曝光设备里,通过光刻机将MASK上面图形投影到硅片上。

接下来,硅片回到涂胶显影机的显影单元中,通过对硅片表面感光胶喷涂显影液,使被感光部分的感光剂融化,这样wafer上就出现了凹凸的图形。经过各种工序重复,最终就形成了细微而复杂的集成电路。

设备各个单元功能说明

 涂胶显影机各单元功能说明


工艺技术指标与要求:

涂胶膜厚均匀性:3sigma 小于 10nm
显影条宽均匀性:(0.15μmCD 测试)3sigma 小于 10nm
腔体氨气浓度:<1ppb(FAB 环境小于 100ppb 条件下)
CHP 热板(如果有):50~200℃(±0.3℃)
产能:60WPH
与曝光机联机要求:需与曝光机联机作业(inline)。


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