设备配置 | 1C1D、2C、2D |
衬底材质 | Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等 |
线宽 | ≥0.35um |
适用工艺 | G-line、i-line、PI |
应用领域 | MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、科研等 |
技术特征 | ◼设备结构紧凑、占地面积小(面宽仅1.1m) ; ◼功能齐全,具备EBR、BSR、RRC、胶嘴自动保湿清洗等功能,可选配更换便捷的针管式胶嘴; ◼可做两种尺寸兼容,不需要更换零件; ◼可选配光刻胶显影液温控, HMDS等单元部件。 |
设备尺寸 | 1180*1450*2040mm(W*D*H) |
宁波润华全芯微电子设备有限公司(ALLSEMI),简称ASI,位于文化底蕴丰厚、风景秀丽、交通便利的宁波余姚市,在北京、武汉和厦门设有*分支机构。
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显影机
6英寸匀胶显影机 MINI型 ACD6 COATER&DEVELOPER 产品信息