北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。
我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。
北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。
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磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。由於碰撞的動量，離子中的正離子將以很高的速度轟擊靶材。這些顆粒以薄膜的形式沉積在基板表面上。根據靶材的不同，可以適當調整濺鍍槍的功率，例如用於導電靶材的直流電源和用於非導電靶材的射頻電源。
如今，磁控濺鍍沉積製程已成為一種在半導體、LCD面板、太陽能面板和光學元件等許多應用中的核心技術，其薄膜的均勻性和大規模的商業效率比熱蒸發材料方法更為重要。
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