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多角度激光椭偏仪

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  • 公司名称北京瑞科中仪科技有限公司
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2025/1/1 5:27:21
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北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队,专精的服务,提供理想的解决方案。

我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向,用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。

北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

客户至上的服务理念,以人为本的企业文化,我们始终为用户提供专业的服务!

合作丨共赢,选择我们,选择未来!

 

半导体材料分析,材料刻蚀
简要描述:多角度激光椭偏仪性能优异的多角度手动角度计和角度精度*的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折射率、消光系数和膜厚。
多角度激光椭偏仪 产品信息

亚埃精度

多角度激光椭偏仪稳定的氦氖激光器保证了0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。

扩展激光椭偏仪的极限

多角度激光椭偏仪性能优异的多角度手动角度计和角度精度*的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折射率、消光系数和膜厚。

高速测量

我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检测,或者做样品均匀性的自动扫描。


激光椭偏仪SE 400adv可用于从可选择的、应用特定的入射角度表征单层薄膜和基片。自动准直透镜确保在大多数平坦反射表面的吸收或透明衬底上进行准确测量。多角度测量的集成支持(40°—90°,5°步进),可用于确定层叠的厚度、折射率和消光系数。为了补偿激光椭偏测量中厚度测量的模糊性,在厚度测量中也采用了多角度测量。

SENTECH激光椭偏仪SE 400adv,用于超薄单层薄膜的厚度测量。小型台式仪器由椭偏仪光学部件、角度计、样品台、自动准直透镜、氦氖激光光源和检测单元组成。我们的激光椭偏仪SE 400adv的选项支持在微电子、光伏、数据存储、显示技术、生命科学、金属加工等领域的应用。


Atomic layer deposited Al2O3 on silicon waferMulti-angle measurement for determining thickness of SiO2 / Si3N4 / Si (substrate)Manual goniometer with 5°-stepsSE 400adv with controllerX-y mapping stageLaser ellipsometer with microspot optionLaser ellipsometer SE 401adv for in-situ measurement in plasma process technologyLaser ellipsometer with liquid cell


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