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标准型离子束刻蚀机(IBE)
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2023-07-03 09:22:46
279
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其他
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图片描述:
详细描述本产品采用口径φ150mm考夫曼型离子源,通过结构的双钼栅离子光学系统及SHAG技术保证在φ100mm范围内束流的均匀性为±5%,电子中和系统可使样片上的电荷积累为零
图片来源:
https://www.ppzhan.com/gongying/2000588.html
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