详细摘要: 本产品是“感应耦合离子体刻蚀机(ICP)"的全自动产品
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言北京金盛微纳科技有限公司
详细摘要: 本产品是利用低能量平行Ar+离子束对基片表面进行轰击,表面上未被掩膜覆盖部分的材料被溅射出,从而达到选择刻蚀的目的,它采用纯物理的刻蚀原理
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 本产品是在“全自动ICP"的基础上增加了进样室、真空锁和机械手自动取送样片装置而成的设备
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本设备通过对真空系统、工作压强、射频电源匹配、气体流量及工艺过程的全自动控制,使工艺重复性、稳定性、可靠性得到有效保证
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本设备通过对工艺的有效控制,可获得较好的均匀性、粘附性以及较好的重复性,并广泛应用于相关领域的器件研发和制造
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本产品具有三种功能:等离子体刻蚀(PE)、反应离子刻蚀(RIE)、感应耦合等离子体刻蚀(ICP)
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本产品采用口径φ150mm考夫曼型离子源,通过结构的双钼栅离子光学系统及SHAG技术保证在φ100mm范围内束流的均匀性为±5%,电子中和...
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本设备具有选择比好,刻蚀速度快、重复性好等特点,它较RIE具有更好的综合刻蚀效果且应用范围更广
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 本设备带有进/取样室、真空锁和机械手自动送/取样片装置
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 详细描述本设备通过对工艺的有效控制,可获得较好的均匀性、粘附性以及较好的重复性,并广泛应用于相关领域的器件研发和制造
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言详细摘要: 本产品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金属等材料表面镀制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各种金属、非金属,单层、多层膜
产品型号:所在地:北京市更新时间:2023-07-03 在线留言包装印刷产业网 设计制作,未经允许翻录必究 .
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