BG-406系列曝光机主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、GPP器件、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准和曝光。该系列曝光机包括4″、6″单/双面曝光机，可实现单/双面对准、单面曝光。
主要技术特点
对准工作台
对准精度搞，漂移小，精密楔形误差补偿机构实现三点找平，找平力小，延长掩摸版使用寿命。
曝光系统
采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
显微镜
显微镜像质清晰，观察舒适。
显微镜扫描系统
采用电机驱动，带动显微镜系统相对工作台的二维运动，完成显微镜观察和扫描。
控制系统
采用工业计算机总线系统，人机交互界面简洁直观，操作方便,同时提供个性化服务。
主要技术指标
| 性能名称 | 技术指标 | ||
| 工作台行程 | Ｘ向 | ±5mm | |
| Y向 | ±5mm | ||
| Z向 | 8mm | ||
| θ向 | ±5° | ||
| 适用基片尺寸 | Max 6″（φ150 mm） | ||
| 适用掩模版尺寸 | Max 7″（175×175 mm） | ||
| 顶部显微镜 | 放大倍率 | CCD连续变倍40×～300× | |
| 扫描范围 | 50mm×50mm | ||
| 调焦范围 | 8mm | ||
| 物镜分离距离 | 28～90mm（4″晶圆） 75～150mm（6″晶圆） | ||
| 对准精度 | ±0.5μm | ||
| 底部显微镜 | 放大倍率 | 330× | |
| 物镜扫描范围X | 50～140mm | ||
| 物镜扫描范围Y | ±12mm | ||
| 对准精度 | ±2μm | ||
| 曝光光源 | UV365，500W超高压汞灯 | ||
| 曝光面积 | φ108mm φ160mm | ||
| 曝光分辨率 | 1.5μm（胶厚≤1μm正胶、真空接触） | ||
| 光强 | ≥20mW/cm2 | ||
| 曝光不均匀性 | ±3%（曝光面积φ108mm） ±5%（曝光面积φ160mm） | ||
| 曝光时间 | 0～999s | ||
| 整机功率 | 2KW | ||
| 外形尺寸 | 1300mm×1100mm×1650mm | ||
| 重量 | 350Kg | ||
