光刻机介绍
曝光装置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″
光源 超高压水银灯 :500W or 1kW
曝光装置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2~4″或者Ø4~6″
光源 超高压汞灯:500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃, 对齐精度自动对齐:+/- 1 μm(
峰值搜索)
Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML 光源超高压汞灯:3.5kW Ø200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135
マスクレス露光装置MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50
主要用途
- 触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL、锂离子电池、太阳能电池、印刷线路板
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适合触摸屏、电子纸、光学胶片(3D等)、有机EL用掩膜等胶片形状基材的曝光机。对应Roll to Roll,可实现软性、薄型、轻量基材的大量生产。