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日本DNK科研曝光机MX-1205光刻机

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称塔玛萨崎电子(苏州)有限公司
  • 品       牌
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/6/29 9:14:18
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经营理念 坚持以人为本,与员工共进步,与客户共携手,与社会共生存,以实现“共存”为**目标。 服务理念:热情、专注 社长致词 玉崎株式会社创立于平成15年,专业从事光学设备销售,经过几年发展,项目也在不断增加,公司开始进驻海外市场,深圳市京都玉崎电子有限公司,是玉崎株式会社全资设立的中国子公司,专业从事国内贸易/国际贸易业务,主要经营光学设备、电子计测仪器、科学仪器、机械加工设备、环境试验设备、PC周边用品、作业工具用品、电源、化学用品、FA自动化类上万种产品的销售。公司凭借雄厚的总公司资本实力,熟练的运营能力,完善的供应链及电子商务的销售模式,为客户搭建一个产品上等、种类齐全、价格实惠的销售平台。 公司拥有专业的销售团队、技术团队、开发团队、**的管理团队,通过全员上下不懈地努力,凭借在工业品领域的专业水平和成熟技术,公司在消费电子、半导体、汽车行业迅速崛起,目前已在深圳、北京、上海、苏州、重庆、成都等地设立了6家分公司。中国其他省市的分公司已在积极筹建之中。 目前已与海外厂商建立了长期稳定的合作关系,已获取认证的品牌有代理日本品牌:OTSUKA大塚电子(薄膜测厚仪、偏光片检测、纳米粒度分析仪、ZATA电位仪、相位差膜·光学材料检查设备、液晶层间隙量测设备等)、东机产业(粘度计)、CCS(视检查光源)、Aitec(视检查光源)、REVOX莱宝克斯(视检查光源)、EYE岩崎(UV汞灯)、索尼克(风速计、流量计等)、坂口电热(加热器、制冷片)、NEWKON新光(针孔机)、富士端子(各种形状端子,料多可定制)、NS精密科学(柱塞泵、高压耐腐蚀防爆泵)。凭借专业销售代理的经验,成熟的产品,赢得了广大客户的信任。并将的信息技术、高科技产品,快速、高效的供应给客户,为中国各地企业、工厂、以及个人用户提供上等的产品和上等的服务。 京都玉崎公司恪守“诚信、品质、快速、贴心”的服务宗旨,建立了完善的运营管理体系和*的IT基础设施,在满足不断增长的服务需求的同时,通过减少中间环节,并提供便利的配送服务,将实惠和安心送到每个客户手中。
简单介绍: 产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应*大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W、1kW、2kW、3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等
日本DNK科研曝光机MX-1205光刻机 产品信息
详情介绍:

光刻机介绍

曝光装置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″ 

光源 超高压水银灯 :500W or 1kW

曝光装置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW

LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2~4″或者Ø4~6″

光源 超高压汞灯:500W 或 1kW

Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M   材料SI 玻璃, 对齐精度自动对齐:+/- 1 μm(
峰值搜索)

Ø300mm对应曝光装置MA-5301ML  光源超高压汞灯:3.5kW  Ø200mm规格也可对应

マスクレス露光装置MX-1201 曝光扫描速度43.94mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光装置MX-1201E  曝光扫描速度22.5mm/s  有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135

マスクレス露光装置MX-1205  曝光扫描速度9/4.5mm/s  有效曝光区域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50

主要规格

MA-1200、MA-1400

  MA-1200 MA-1400
基板尺寸 追大 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″ 追大 400 x 400mm
光源 超高压水银灯 :500W or 1kW 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
本体重量 400kg 400kg(包含无尘机房)
光源重量 250kg
选购项 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽



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