6英寸匀胶显影机标准型 ACD6 COATER&DEVELOPER 返回列表页

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更新时间：2023-08-20 11:38:14浏览次数：495次

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产品简介

设备配置2C2D、4C、4D设备产能180WPH衬底材质Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等线宽0

设备配置	2C2D、4C、4D
设备产能	180WPH
衬底材质	Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN等
线宽	≥0.35um
适用工艺	G-line、i-line、PI
应用领域	MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、LED、科研等
技术特征	◼设备采用高速机械手、产能高，稳定性好； ◼配置有RRC功能，光刻胶4寸用量可控制在0.6ml； ◼设备故障、生产工艺参数等记录等可长期保存备查； ◼光刻胶采用精密计量泵供应，精度高，供液稳定，出胶量设定方便； ◼可做两种尺寸兼容，不需要更换零件； ◼可选配光刻胶显影液温控, HMDS等单元部件。
设备尺寸	165014502040mm（WDH）