详细摘要： 简单介绍：产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-03 在线留言塔玛萨崎电子（苏州）有限公司
塔玛萨崎电子（苏州）有限公司
详细摘要： 简单介绍：产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...
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详细摘要： 简单介绍：产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-02 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长采用独自的平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。利用图像处理技术,使预对位...
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-02 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长利用本公司开创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。装载机侧和卸载机侧*多可设置两个篮具（选购项）。备有冷却机构，可进行基...
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-01 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长搭载本公司开创的镜面光学系统爆光灯房（LAMP HOUSE）。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。采用本公司开创的同轴对位方式和高速图像处理...
产品型号：所在地：更新时间：2023-07-01 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工艺中...
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-30 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工艺中...
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-30 在线留言
详细摘要： 简单介绍：产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-29 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长采用独自的镜面・镜头光学系统,实现**均匀的照射。配备有可设定非接触・面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的显微镜、X・Y・θ轴对位台的对位...
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-29 在线留言
详细摘要： 简单介绍：主要特长除近接曝光外，还可对应接触曝光(软接触和硬接触)可对应幅度为500mm以上的大型胶片。采用独自的光学系统,可选择单面曝光或双面曝光。还能进行一...
产品型号：所在地：更新时间：2023-06-28 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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