- 产品详细介绍
- 详细参数
项目 | 主要规格 |
曝光方式 | 单灯单面曝光(上面)、平行光源 |
有效照射面积 | 400*410mm/400*500mm/450*550mm/550*650mm/620*750mm(可根据客户需求定制) |
强度均匀性 | 均匀度≥90% |
平行半形 | ≤2.0º |
倾斜角 | ≤1.5º |
解析度 | L/S 10μm(玻璃菲林) |
光强控制 | 能量光强≥45 mw/cm²(8kw) 能量光强≥30mw/cm²(5kw) |
光强波长 | 中心波长365um管理波长300-450um |
灯管规格 | 5KW or 8KW or 10KW汞灯(平行光曝光灯) |
灯管部份 | 保用1000小时、在1000小时内灯管能量衰减小于等于30% |
机器规格 | 2800*1200*2200MM(长宽高)参考尺寸 |
环控柜规格 | 2800*1200*2200MM(长宽高)参考尺寸 |
机器外观 | 不锈钢镜面板 |
CCD选择 | 4CCD 品牌:WATEC(日本) |
重复对位精度 | ±5um |
接触方式 | 近似接触,(轴位置检测),保留吸真空曝光模式 |
冷却方式 | 灯室内回圈方式冷却,工作台采用1000级过滤空气冷却,风量可调 |
曝光控制方式 | 时间和能量两种方式 |
曝光环境 | 温度:22+/-1℃ 温度:55%+/-5 |
人机界面 | 触控式荧幕显示器 |
冰水需求 | 30L/min压力2KG水温≤12º1英寸配管 |
压缩空气需求 | 流量:30L/min ψ8mm 5.5KG/CM2以上 |
电力需求 | 三相五线380VAC,3ψ50HZ, 40A |
工作平台 | X,Y,Y自动微调平台(台制) |
电控装置 | PC+PLC |