
设备概要:
适用尺寸:2”~ 12”Wafer基材。
基本规格:
外观材质:PP板组合焊接而成,可以耐酸碱侵蚀。
操作盆罩:SUS制,圆盆型设计。
盆罩掀盖:分离式透明PVC上盖。
吸盘规格:一组铝制吸盘精密研模阳极保护。
操作方式:手动直接输入。
入料方式:手动给料。
液体种类:光阻剂,溶剂。
马达:AC Servo Motor(转速:10~6000 RPM)。
含真空帮浦(附PP防尘外罩)。
真空渗液保护:有,间接式防护设计。
真空简检知:有(可数位设计真空值kpa下限保护)。
保护装置:有。
保护制御:有一本装置的全部状态,异常检出。
电控系统:-软件:PLC。
使用操作界面:中文彩色触控面板。
配方模块:30组配方设定。
段数设定:每一配方模块均设30段段数。
适用尺寸:2”~ 12”Wafer基材。
基本规格:
外观材质:PP板组合焊接而成,可以耐酸碱侵蚀。
操作盆罩:SUS制,圆盆型设计。
盆罩掀盖:分离式透明PVC上盖。
吸盘规格:一组铝制吸盘精密研模阳极保护。
操作方式:手动直接输入。
入料方式:手动给料。
液体种类:光阻剂,溶剂。
马达:AC Servo Motor(转速:10~6000 RPM)。
含真空帮浦(附PP防尘外罩)。
真空渗液保护:有,间接式防护设计。
真空简检知:有(可数位设计真空值kpa下限保护)。
保护装置:有。
保护制御:有一本装置的全部状态,异常检出。
电控系统:-软件:PLC。
使用操作界面:中文彩色触控面板。
配方模块:30组配方设定。
段数设定:每一配方模块均设30段段数。