单面紫外光刻机
型号：URE-2000/25
简单介绍：光刻机：(英文名：Mask ALIGENER)又名曝光机, 该型号光刻机创新采用三柔性支点实现高精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用创新技术积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。
一．技术特征——非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动型）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用创新技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀照明；
1、采用三爪和球气浮同时找平，无论大片、小片调平精度均高；
2、具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能；
3、自动分离对准间隙和消除曝光间隙，间隙分离可达500μm；
4、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储；
5、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好；
7、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明（曝光面能量15mW/cm ，温度小于30度）；
8、对准完成，自动消除曝光间隙，无横向漂移且可通过监视器观察；
9、快门可以单独开启，也可以数字设定自动倒计时曝光（设定范围0.1s-9999.9s）；
10、采用350W进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度；
11、汞灯具有高亮度和“待机”两种方式，即曝光时采用高亮度照明，而不曝光时采用低亮度的“待机”，从而延长了汞灯寿命。
12、设备外形美观精制，性能非常可靠；
13、上下片、版十分方便，自动化程度很高，操作简便。
二．技术参数
1、曝光面积：115mm×115mm
2、分辨力：0.8μm（胶厚2mm的正胶）
3、对准精度：：±0.5μm
4、掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸：2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、样片尺寸直径Ф15mm--Ф100mm(可适应非标准片或碎片)
7、厚度0.1mm-6mm(可扩展为15mm)
8、照明均匀性：±3.5%（Ф100mm范围）
9、掩模相对于样片运动行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞灯功率：350W（直流）
11、曝光波长：365nm（进口汞灯）
12、曝光能量密度：15mW/cm 可以根据需要增强或调弱(420nm以上波长小于0.1mW/cm )
13、曝光方式：定时（到计时方式0.1s—9999.9s）
应用领域
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等
URE系列紫外光刻机系我公司重点推荐产品
曾出口：新加坡，韩国，朝鲜，缅甸，老挝等
