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无掩膜数字光刻机(工业型)

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  • 公司名称中国.鑫有研电子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/7/4 9:26:48
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鑫有研电子科技有限公司(企业简称:中国鑫有研,SIYOUYEN)系一家从事半导体集成电路工艺设备技术研发、设计、制造、销售、服务于一体的综合性企业。鑫有研:概念源自于21世纪初期美国,意为科技在社会技术方面应用的体现,拥有“生活,科技”之桂冠美誉。鑫有研将科技领域的成功、社会责任和环境保护相结合。通过科技与创新,帮助微电子企业及高校实验室等机构客户满足当前及未来的需求。公司严格贯彻与规范实施ISO9001质量管理标准体系和ISO14001环境管理体系标准;鑫有研拥有一批技术*、服务优良的高素质人才,和完善的售后服务体系。产品以其的品质进入国际市场,为国家重点工程配套、环保工业、科研、信息产业等做出了较大贡献,获得了广大用户的信赖与好评,鑫有研热诚欢迎广大客户、企业朋友等携手共同进步!1、微电子工艺设备方面鑫有研在半导体、太阳能、FPD领域湿制程设备的设计、研发、生产及销售;同时代理半导体、太阳能、FPD领域及其它国外设备,负责在中国市场的开发、推广、服务!2、真空技术应用方面鑫有研在真空行业领域,通过引近韩国、德国*的真空技术与合作,开发出了旋片真空泵,无油真空泵,防爆真空泵等。同时与韩国WONCHANG,韩国DOOVAC,韩国NARA,韩国G&M,韩国KMC,意大利DVP,等形成战略联盟,致力于真空技术的推广与销售!3、生物技术研发方面鑫有研在生物技术方面与国家各个重点科研领域机构合作(质检,光学,教育,航天,海洋,石油,制药,检测等)共同致力于节能减排低碳环保产业,涉及节能环保化工、设备、研发和新技术推广等工作!鑫有研企业先后荣获:“中国质量500强”“中国品牌500强”“中国”等荣誉!
无掩膜数字光刻机(工业型)DS-2000/14G技术特点:该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便
无掩膜数字光刻机(工业型) 产品信息

无掩膜数字光刻机(工业型)

DS-2000/14G

技术特点:

该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源,用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板,采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),拼接获得大面积图形,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。

主要技术指标

曝光光源:350W汞灯

曝光谱线: i线(365nm)

照明均匀性:±2%;

曝光场面积:1mm×0.75mm

光刻分辨力:1μm

CCD检焦,检测精度:2um

工件台运动定位精度:±0.65μm;

调焦台运动灵敏度:1μm;

工件台运动范围:X:100mm、 Y:100mm;

对准精度: ±1μm;

调焦台运动行程:±6mm

转动台行程:±6°以上

基片尺寸:外径: Ф1mm—Ф100mm,

   厚度:0.1mm—8mm

3.外形尺寸:840mm(长)×450mm(宽) ×830mm(高)

无掩模光刻机系统关键技术:曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等

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