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URE-2000/A12大面积自动光刻机

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  • 公司名称中国.鑫有研电子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/7/4 9:19:41
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鑫有研电子科技有限公司(企业简称:中国鑫有研,SIYOUYEN)系一家从事半导体集成电路工艺设备技术研发、设计、制造、销售、服务于一体的综合性企业。鑫有研:概念源自于21世纪初期美国,意为科技在社会技术方面应用的体现,拥有“生活,科技”之桂冠美誉。鑫有研将科技领域的成功、社会责任和环境保护相结合。通过科技与创新,帮助微电子企业及高校实验室等机构客户满足当前及未来的需求。公司严格贯彻与规范实施ISO9001质量管理标准体系和ISO14001环境管理体系标准;鑫有研拥有一批技术*、服务优良的高素质人才,和完善的售后服务体系。产品以其的品质进入国际市场,为国家重点工程配套、环保工业、科研、信息产业等做出了较大贡献,获得了广大用户的信赖与好评,鑫有研热诚欢迎广大客户、企业朋友等携手共同进步!1、微电子工艺设备方面鑫有研在半导体、太阳能、FPD领域湿制程设备的设计、研发、生产及销售;同时代理半导体、太阳能、FPD领域及其它国外设备,负责在中国市场的开发、推广、服务!2、真空技术应用方面鑫有研在真空行业领域,通过引近韩国、德国*的真空技术与合作,开发出了旋片真空泵,无油真空泵,防爆真空泵等。同时与韩国WONCHANG,韩国DOOVAC,韩国NARA,韩国G&M,韩国KMC,意大利DVP,等形成战略联盟,致力于真空技术的推广与销售!3、生物技术研发方面鑫有研在生物技术方面与国家各个重点科研领域机构合作(质检,光学,教育,航天,海洋,石油,制药,检测等)共同致力于节能减排低碳环保产业,涉及节能环保化工、设备、研发和新技术推广等工作!鑫有研企业先后荣获:“中国质量500强”“中国品牌500强”“中国”等荣誉!
URE-2000/A12大面积自动光刻机产品技术特征l、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明(曝光面能量大于10mW/cm,温度小于30℃)
URE-2000/A12大面积自动光刻机 产品信息

URE-2000/A12大面积自动光刻机

产品技术特征

l、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明(曝光面能量大于10mW/cm,温度小于30℃);

2、采用1000W进口(德国欧司朗直流汞灯,光能量密度可调);

3、采用创新技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应实现均匀照明;

4、采用自动控制的自动找平方式,无论大片、小片、非标片均可实现高精度调平;

5、自动分离对准间隙和消除曝光间隙;

6、高倍率显微镜和22英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程;既可通过显微镜目镜观察对准,也可通过“CCD+显示器”观察对准,不仅可满足高精度对准功能,又可用于检测曝光结果;

7、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好;

8、对准完成自动消除曝光间隙,无横向漂移且可通过监视器观察;

9、快门可以单独开启,也可以数字设定自动倒计时曝光(设定范围0.1s-9999.9s);

10、设备外形美观精制,性能非常可靠;设备主体材料经过防锈处理,经久耐用;

11、可数字设定对准间隙和曝光间隙;

12、上下片、版十分方便,自动化程度高,操作简便;

二、设备主要技术指标:

(1)曝光面积:300mm×300mm可兼容;

(2)分辨力:2μm;

(3)对准精度:±2μm;

(4)掩模尺寸:7英寸、9英寸、13英寸;

(5)样片尺寸:6英寸、8英寸、12英寸;

(6)wafer chuck表面:防止光反射涂层;

(7)掩模样片整体运动范围:X:10mm;Y:10mm;

(8)掩模相对于样片运动行程:X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6°;

(9)汞灯功率:1000W(直流);

(10)曝光能量密度:≥ 10mW/cm;

(11)曝光峰值波长:365nm;

(12)光源平行度:<2°;

(13)曝光方式:定时(倒计时方式0.1s—9999.9s);

(14)光刻版夹具兼容性;

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等。

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