专用电子束光刻系统

专用电子束光刻系统
自动化、稳定性和吞吐量

EBPG Plus 高性能纳米光刻系统可在 100 kV 电压下提供高达 8 英寸的能力。其全自动化、高速和高分辨率可以为中心的操作以及半导体制造产生的光刻技术。

凭借其创新的架构和具有吸引力的拥有成本，VOYAGER 纳米光刻系统降低了高速电子束光刻的准入门槛。

RAITH150 两个直写工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亚 8 纳米结构可以在从几毫米到 8 英寸晶圆的样品尺寸上实现，而热稳定性即使在具有挑战性的环境中也能支持性能。

多技术电子束光刻系统

灵活性、多功能性和 SEM 成像

这种多功能的多技术纳米光刻系统将 EBL 系统与用于定制实验和工艺的开放平台相结合。eLINE Plus 具有一系列不同的选项，是通用的纳米工程 EBL 系统。

EBL-SEM 混合系统将的纳米光刻和分析 SEM 成像结合在一个工具中。PIONEER Two 定义了一种新型的经济型专业电子束光刻系统，适用于纳米加工和基于 SEM 的分析。