半自动光罩对准曝光机
适合量产线使用 单面对准曝光系统
產品簡介:
用PLC程式控制,使多个手动动作能连动,减少手动操作的程序,系统简单,性能可靠,适合量产线使用。
本公司成立于2006年,为一小型之设备制造厂,专精于半导体微影制程之光罩对准曝光机及曝光源之开发制造,从曝光灯箱内的光学设计到各种型式的完整曝光机,本公司经多年努力已自行开发完成,并已出货国内外众多客户。
用PLC程式控制,使多个手动动作能连动,减少手动操作的程序,系统简单,性能可靠,适合量产线使用。
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