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桌上型曝光机

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  • 公司名称德扬光电有限公司
  • 品       牌
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  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2023/6/7 9:35:28
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本公司成立于2006年,为一小型之设备制造厂,专精于半导体微影制程之光罩对准曝光机及曝光源之开发制造,从曝光灯箱内的光学设计到各种型式的完整曝光机,本公司经多年努力已自行开发完成,并已出货国内外众多客户。

曝光机
產品簡介: 保有全手动之完整功能, 取消手动机下方之机架以及后方之箱体,做最简化之设计, 适合预算不多之客户 。
桌上型曝光机 产品信息

桌上型曝光机

适合研究单位使用
產品簡介:

保有全手动之完整功能, 取消手动机下方之机架以及后方之箱体,做最简化之设计, 适合预算不多之客户 。

紫外光源功率 : 350W or 500W 。

曝光光源尺寸 : 4″, 5″ ,6″ , 8″。

波长 : NUV(350W时365nm强度约16~20mW/cm2) 。

均匀度 : +-5% 。

电源供应器 : 定功率控制 。

快门控制计时器 : 0.1~999.9秒。

采用可变倍率镜头影像系统,总影像倍率100X-600X, 小型高解析黑白CCD摄影机,

19”LCD荧幕 LED同轴光源打光,影像解析度可达 1um 镜头位置调整,可前后左右上下微调约 20mm ,

可选择使用一组或两组影像系统, 选配快速扫描台,可快速移动镜头,前后左右移动约 10cm 。

光罩真空吸盘 : 4”,5″, 6” 下吸式 。

晶圆真空吸盘 : 破片,2”,3″ ,4″ 或 5” ,具光罩与晶圆平行面校正功能,

晶圆真空吸盘可前后左右调整约 10mm,调整灵敏度 1um 旋转调整约 5度,

调整灵敏度 0.001度 Z轴可调整约 3mm, 调整灵敏度 1um, Z轴具千分表可显示光罩与晶圆间距, Z轴可设定对准与曝光两种间隙,

可调整接触真空吸附力大小, 曝光模式有 Vacuum contact,Soft contact, Proximity,

人工置放晶片与调整晶片位置,取放晶圆时光罩吸盘以手开启。

采全手动拨钮操作系统以手动控制面板操作。

操作项目包括光罩与晶圆之更换,光罩与晶圆间隙之切换, 光罩与晶圆平行面校正,真空接触之切换与真空值调整Z轴的归零,

镜头与曝光源左右交替移至对准台上方,并有安全互锁功能。

桌上型大底板机座,具调整脚。

采真空接触曝光图形解析可达 1um, 近接曝光依光罩与晶圆间隙可达 3~5um。

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