双面对准曝光机
双面对准单面曝光系统
產品簡介:
对于无法正常正面对位之制程,可以采用背面对位方式来对位, 双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。
本公司成立于2006年,为一小型之设备制造厂,专精于半导体微影制程之光罩对准曝光机及曝光源之开发制造,从曝光灯箱内的光学设计到各种型式的完整曝光机,本公司经多年努力已自行开发完成,并已出货国内外众多客户。
对于无法正常正面对位之制程,可以采用背面对位方式来对位, 双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。
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